| Cette
manifestation francophone, qui se déroulera conjointement
au 7e
Salon des Utilisateurs des Techniques du Vide,
sera l'occasion de mettre en contact recherche universitaire,
équipementiers et utilisateurs industriels et
de faire le point sur ce domaine en évolution
rapide.
Les
dépôts de couches minces par voie sèche,
pour leurs performances mais aussi pour le respect
de contraintes environnementales en évolution,
ont de plus en plus tendance à supplanter les
technologies par voie humide génératrices
de rejets et de déchets à coûts
de traitement prohibitifs.
Les technologies de dépôt sous vide par
pulvérisation cathodique magnétron et
par évaporation par arc anodique et cathodique
ont une place importante sur le marché. Si
les technologies de dépôt par arc semblent
maintenant bien établies, les technologies
magnétron sont en évolution rapide avec
des procédés émergents tels que
l'IPVD (Ionized Physical Vapor Deposition) et les
magnétrons pulsés à très
forte puissance qui sont apparus récemment.
Dans la continuité des manifestations tenues
à Mons en 1999, à Orsay en 2001 et à
Gand en 2003, ces 4e Journées des 7 et 8
juin 2006 consacrées aux Nouvelles Tendances
en Procédés Magnétron et Arc
pour le Dépôt de Couches Minces ont
pour objet de faire le point sur les évolutions
marquantes dans le domaine. Les organisateurs ont
volontairement retardé cette manifestation
pour la faire coïncider avec le Salon des Utilisateurs
des Techniques du Vide qui se tiendra dans le même
lieu.
Les nouvelles technologies magnétron constitueront
un thème fort avec, notamment la venue du Professeur
suédois Ulf Helmersson. Des conférences
sur des thèmes émergents tels que les
dépôts à la pression atmosphérique
et les procédés pour les nouveaux matériaux
sont également programmés.
Des cours, s'adressant aussi bien aux chercheurs qu'aux
ingénieurs, permettront de rappeler les fondements
de la technologie plasma et la caractérisation
des matériaux en couches minces. Des posters
présenteront les meilleures réalisations
actuelles.
Le français sera la langue communément
véhiculée.
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