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Caractérisation de couches minces par faisceaux d'ions rapides : nouvelles possibilités offertes par la plateforme AIFIRA
H. Guégan, Q. Le Minh – ARCANE-CENBG – Gradignan (F)
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Scope – Sputter coater for optical precision elements
J.D. Foulon – DKSH France SA – Miribel (F)
M. Zeuner – Roth & Rau AG – Hohenstein-Ernstthal (D)
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Oscillation de compositions d'alliages W-Fe obtenus par copulvérisation magnétron
P. Plantin, A.L. Thomann, P. Brault – GREMI – Orléans (F)
T. Sauvage – CERI – Orléans (F)
P.O. Renault, P. Goudeau – LMP – Futuroscope (F)
S. Laaroussi, B. Boubeker – Université Hassan II – Casablanca (M)
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4 |
Dépôt localisé de silice par plasma à pression atmosphérique
E. Debourg, F. Benhalima – AcXys Technologies – Saint-Martin le Vinoux (F)
E. Quesnel – CEA/LITEN – Grenoble (F)
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Pulvérisation magnétron ionisée appliquée à la synthèse de nano-canaux
J. Tranchant, B. Angleraud, P.Y. Tessier, M.P. Besland, M.A. Djouadi, J.P. Landesman – IMN – Nantes (F)
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6 |
Etude des contraintes dans les films d'AlN déposés par pulvérisation magnétron DC
B. Abdallah, M.P. Besland, M. A. Djouadi – IMN – Nantes (F)
N. Horny, P.Y. Jouan – LMP/IUT MP – Maubeuge (F)
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Effet des paramètres de pulvérisation magnétron sur l'orientation cristalline de films minces de nitrure d'aluminium
C. Duquenne, M.P. Besland, P.Y. Tessier, M.A Djouadi – IMN – Nantes (F)
B. Popescu, Y. Scudeller – Ecole Polytechnique – Nantes (F)
C. Brylinski, S. Delage – Alcatel-Thalès – Marcoussis (F)
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Elaboration et étude des propriétés de couches CHx afin d'obtenir des couches super-hydrophobes à effet Lotus
V. De Vriendt, S. Lucas – LARN – Namur (B)
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Films minces d'ITO déposés par pulvérisation magnétron en atmosphère réactive : influence de la quantité d'oxygène dans le mélange gazeux sur la microstructure et les propriétés optiques et électriques
C. Secouard, C. Ducros, F. Sanchette – CEA/LTS – Grenoble (F)
C. Secouard, P. Roca i Cabarrocas – Ecole Polytechnique – Palaiseau (F)
S. Noël – CEA/LCH – Grenoble (F)
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Elaboration et caractérisation de couches minces de TiO2 par pulvérisation cathodique magnétron pour une application photovoltaïque
A. Benyoucef, F. Lapostolle, D. Klein, C. Coddet – LERMPS – Belfort (F)
A. Benyoucef, B. Benyoucef – Université Abou-bakr Belkaid – Tlemcen (DZ)
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Optically transparent hard coatings consisting of Al-Si-N
A. Pélisson, F.J. Haug, M. Parlinska-Wojtan, J. Patscheider – EMPA – Duebendorf (CH)
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Influence de la pression et d'une ionisation additionnelle sur le transport de la matière pulverisée en procédés magnétron HISDP
J.C. Imbert, L. De Poucques, C. Boisse-Laporte, J. Bretagne, M. Ganciu, L. Teulé-Gay, M. Touzeau – LPGP – Orsay (F)
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Elaboration par pulvérisation magnétron de phases métastables, à partir de cible céramique : exemple du protoxyde de fer, Fe1-x
O
B. Mauvernay, L. Presmanes, P. Tailhades – CIRIMAT – Toulouse (F)
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Mesure de la section efficace de diffusion élastique de particules α par l'oxygène et application à l'analyse quantitative et en profondeur de l'oxygène dans les couches minces
J. Demarche, G. Terwagne – LARN – Namur (B)
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Modélisation fluide des plasmas magnétron. Effet du champ magnétique
C. Costin – Al.I.Cuza University – Iasi (R)
J.B. Choimet, T. Minea – LPGP – Orsay (F)
J.B. Choimet – Saint-Gobain Recherche – Aubervilliers (F)
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Large pressure range operation of a compact, high power, pulsed magnetron discharge; exploratory table-top experiments for new R&D project conception
M. Ganciu – LPGP – Orsay (F)
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Reactive sputter deposition of highly conductive RuO2 thin films using high power pulsed magnetron sputtering (HPPMS)
D. Benzeggouta, M. Ganciu, M.C. Hugon, B. Agius – LPGP – Orsay (F)
R. Sireilles – Alliance Concept – Cran-Grevier (F)
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