L’objectif des journées est de faire le point sur les évolutions récentes et l’émergence de techniques innovantes de dépôt de couches minces et leurs applications en présentant à la fois les travaux récents des laboratoires et les nouveaux développements et les nouvelles utilisations de ces procédés à l’échelle industrielle. Notamment les nouveaux procédés dits IPVD mentionnés ci-dessous commençentt à pénétrer le milieu industriel et il est important de faire le point sur ces développements.

La partie colloque commence en fin de première journée avec une séance d’affiches, précédée de quelques présentations orales courtes (10’) sélectionnées parmi les travaux de doctorants. Cette séance d'affiches se tiendra en soirée de la première journée et permettra aux participants de présenter leurs travaux récents.

La seconde journée sera consacrée aux développements récents dans le domaine des dépôts par voie physique (PVD). Seront particulièrement mis en exergue, les techniques utilisant les décharges à fort taux d’ionisation, techniques dites IPVD (PVD assistée par Ionisation additionnelle, magnétrons pulsés à très forte puissance instantanée) qui sont très activement étudiés et en cours de transfert industriel pour l’amélioration de la qualité des couches minces. Ces techniques donneront lieu à des exposés non seulement sur la métrologie et la compréhension globale de ces décharges mais aussi sur leur utilisation en laboratoires et dans l’industrie. Le Comité d’organisation souhaite consacrer une partie significative de ces Journées à l’intérêt industriel des techniques magnétrons et des nouveaux procédés dans le domaine pour des applications touchant aux domaines de l’énergie et de l’environnement.

Parmi les questions qui sont également d’actualité, des exposés seront consacrés :

La tenue simultanée du 9e Salon VIDE 2008, qui regroupe plus de 60 exposants, devrait permettre une forte participation industrielle à ces journées, comme cela a été le cas des Journées Magnétrons 2006 qui avait vu une participation équilibrée de chercheurs et d’ingénieurs. Le Laboratoire de Physique des Gaz et Plasmas (LPGP) auquel appartient le responsable scientifique de ces Journées travaille sur les décharges magnétrons depuis une quinzaine d’années. Il a conduit des travaux sur l’étude expérimentale et la modélisation du plasma de ce type de décharges. Il a été directement impliqué dans un programme national récent sur les techniques IPVD et, plus récemment, sur le développement du concept de magnétrons pulsés à très forte puissance. Les travaux actuels portent également sur l’utilisation de ces techniques pour le dépôt de nouveaux matériaux à propriétés contrôlées et les dépôts de couches minces sur des surfaces à géométrie complexe.