PROCÉDÉS

Le vide joue un rôle particulier dans de nombreux procédés d'élaboration de couches minces. Nous proposons une gamme complète de cours concernant la plupart des procédés d'élaboration des couches minces, le plus souvent assistés par plasma, ainsi que les procédés de gravure. Ces procédés s'appliquent aussi bien à des échantillons métalliques, semi-conducteurs ou polymères.

 
Dates
Prix
adhérent
Prix non
adhérent
           
           
Initiation aux plasmas
21-23 septembre 2010
1 050 euros 1 150 euros
           
La lyophilisation, dans les domaines agroalimentaire et pharmaceutique
7-9 décembre 2010
1 250 euros
1 350 euros
           
Couches minces : généralités concernant la croissance des films
9-12 mars 2010
reporté au 25-28 mai
1 550 euros 1 650 euros
           
p3b
Couches minces : élaboration des couches minces
29 mars - 2 avril 2010
2 000 euros 2 100 euros
     
   
PVD - Magnétron - Evaporation - MBE
2-4 février 2010
5-7 octobre 2010
850 euros 950 euros
   
   
Procédés CVD pour la croissance des couches minces
13-14 janvier 2010
(annulé)
750 euros 850 euros
   
   
Métallisation des matières plastiques
14-15 septembre 2010
700 euros 800 euros
   
Gravure des matériaux par plasma
9-10 juin 2010
750 euros 850 euros
   
La lutte contre l'usure dans l'industrie

10-12 mai 2010

1 020 euros
   
Le titane et ses alliages : applications industrielles
en 2011
-
         
Formation en lithographies optique et électronique
18-20 mai 2010
1 100 euros 1 200 euros
           
Formation en lithographies optique et électronique

réporté au
19-21 octobre 2010

1 330 euros