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Les formations

Formation Procédés   INITIATION AUX TECHNIQUES DE DÉPÔTS DE COUCHES MINCES PAR PVD ET PECVD ET DE LEUR CARACTÉRISATION PAR ELLIPSOMÉTRIE



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  • Date début : 17/09/2019
    Date fin : 18/09/2019
  • Durée : 2 Jours (14 heures)
  • Lieu :

    Institut des Matériaux Jean Rouxel (IMN) à Nantes

  • Prix adhérent : 895 €
    Non adhérent : 995 €
  • Les "plus" : 40 % TP
  • Niveau : I-II-III
  • Documents remis :
    Diaporama des cours, présentation des expériences de dépôt de couches minces
  • Animateur :

    Pierre Yves TESSIER
    Maitre de Conférence
    pierre-yves.tessier@cnrs-imn.fr

    Agnès GRANIER
    Directrice de Recherche
    agnes.granier@cnrs-imn.fr

  • Intervenant(s) :

    Christophe CARDINAUD
    Antoine GOULLET
    Pierre-Yves JOUAN


Objectifs

Les procédés de dépôt de couches minces par voie sèche (évaporation, pulvérisation ionique, magnétron, CVD assistée par plasma) sont des procédés de dépôt basse température, respectueux de l’environnement, adaptés à des substrats de taille et nature variées. Ils sont utilisés pour le dépôt de couches minces fonctionnelles ou multifonctionnelles : couches optiques, barrières, dures, isolantes, conductrices, décoratives…
Ce stage de 2 jours est destiné aux techniciens, ingénieurs ou chercheurs, qui souhaitent avoir un panorama des principes et potentiels de ces procédés et de la technique d’ellipsométrie pour être en mesure de choisir le procédé le mieux adapté à une application donnée.

Pré-requis

Connaissance de base en physique et chimie (niveau bac +3) ou expérience pratique professionnelle en procédés physico-chimiques ou procédés couches minces.

Programme

Les deux jours de formation se partageront entre des cours présentant les principes et des exemples d’applications de ces différents procédés (6 h), des études pratiques de dépôt de couches minces (6 h). Du temps (2 h) sera également réservé pour des échanges entre formateurs et stagiaires afin de répondre aux questions et problèmes concrets des stagiaires.

Cours

  • Rappel de quelques notions fondamentales sur les plasmas, les mécanismes d’interaction plasma surface et les modes de croissance des couches minces
  • Principes et exemples d’application des procédés d’évaporation
  • Principes et exemples d’application des procédés de pulvérisation cathodique, magnétron, HiPIMS…
  • Principes et exemples d’application des procédés de dépôt CVD assistés par plasma (PECVD)
  • Principes et exemples d’application de l’ellipsométrie pour la mesure in situ et ex situ de l’épaisseur et des propriétés optiques des couches minces

Travaux pratiques
Les notions présentées dans les cours seront mises en pratique par des expériences de dépôt de couches minces par pulvérisation magnétron et PECVD et leur caractérisation par ellipsométrie. Ces expériences permettront aux stagiaires d’aborder de façon concrète les paramètres (pression, puissance, nature du gaz, polarisation du porte-échantillon…) permettant de contrôler les structures et propriétés des couches minces déposées.