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Formation Procédés   LITHOGRAPHIES OPTIQUE ET ÉLECTRONIQUE



SP-LITHO
  • Date début : 15/09/2021
    Date fin : 17/09/2021
  • Durée : 2,5 Jours (18 heures) Début 13h30 le 1er jour
  • Lieu :

    IJL Nancy

  • Prix adhérent : 1 280 €
    Non adhérent : 1 380 €
  • TP : 55%
  • Modalités et délai d'accès : Toute inscription est recevable dès publication de l'offre jusqu'à l'atteinte du nombre maximal de participants.
  • Accessibilité : La partie TP organisée en salle blanche n'est pas accessible aux personnes à mobilité réduite.
  • Contact :

    Christine Lemoine
    01 53 01 90 34
    christine.lemoine@vide.org

TAUX DE SATISFACTION 100 %
90 % très satisfait / 10 % satisfait

OBJECTIFS

Ce stage de deux jours et demi s’adresse aux techniciens et ingénieurs du milieu industriel et académique qui sont amenés à développer des procédés de lithographies optique et électronique.
Cette formation comporte des cours théoriques et des travaux pratiques mettant en œuvre des procédés de lithographie optique et électronique pour la réalisation de micro et nano-objets. Elle donne les bases théoriques et expérimentales indispensables à la mise en œuvre de ce genre de procédés dans un environnement salle blanche. Cette formation abordera aussi les aspects de dépôt par évaporation spécifique à la lithographie électronique.

NIVEAU / PRÉREQUIS

Niveau Expert
Expérience professionnelle en micro- ou nano-fabrication requise ou niveau académique équivalent à une L2 sciences physiques ou DUT mesures physiques. Plus précisément, une connaissance des lois de bases de l’optique (diffraction, optique géométrique, optique ondulatoire, interférences, interactions électron-matière) ainsi que des grandeurs caractéristiques des phénomènes mis en jeu est conseillée mais pas obligatoire. Des rappels rapides mais suffisants seront effectués en fonction du public accueilli.

MÉTHODES MOBILISÉES

Théorique :
Cours sur vidéoprojecteur avec une version papier distribuée au début pour prise de notes.

Pratique :
Aligneur de masque optique, microscope optique, profilométrie (possiblement lithographie optique sans masque si intérêt des participants), lithographie électronique sur systèmes Raith 150-2, utilisation du logiciel Raith pour dessin de masque.

PROGRAMME

Cours :
● Lithographie optique : principe, configurations, procédé, applications.
● Lithographie électronique : principe, procédé, application.
● Nano-impression : principe, configurations, applications.
● FIB (Focused Ions Beam) : principe, applications.

Travaux pratiques :
● Lithographie optique : – spin coating – aligneur de masque – lift-off.
● Lithographie électronique : – dessin de masques – écriture par faisceau d’électron – caractérisation.

MODALITÉS D’ÉVALUATION

Questionnaire ouvert sur le cours et les TP de la formation.