FORMATIONS PROCÉDÉS

Le vide joue un rôle particulier dans de nombreux procédés d’élaboration de couches minces.
Nous proposons une gamme complète de cours concernant la plupart des procédés d’élaboration des couches minces, le plus souvent assistés par plasma, ainsi que les procédés de gravure.

Ces procédés s’appliquent aussi bien à des échantillons métalliques, semi-conducteurs ou polymères.

Programme formation 2020
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Date Code Intitulé
03/11/2020 P1 INITIATION AUX PLASMAS (3 jours)
15/10/2020 P2 DÉPOT PAR COUCHE ATOMIQUE (ALD, ATOMIC LAYER DEPOSITION) (2 jours )
25/05/2020 P3a MÉCANISMES ET CROISSANCE DES COUCHES MINCES (4 jours) Reportée au dernier trimestre 2020
22/06/2020 P3b PROCÉDÉS D’ÉLABORATION ET CARACTÉRISATION DES COUCHES MINCES (5 jours) Reportée au dernier trimestre 2020
16/06/2020 P4 PVD – MAGNÉTRON – ÉVAPORATION – MBE (3 jours) Reportée au dernier trimestre 2020
09/09/2020 P5 LITHOGRAPHIES OPTIQUE ET ÉLECTRONIQUE (2,5 Jours)
28/09/2020 P6 INITIATION AUX TECHNIQUES DE DÉPÔTS DE COUCHES MINCES PAR PVD ET PECVD ET DE LEUR CARACTÉRISATION PAR ELLIPSOMÉTRIE (2,5 Jours)
24/11/2020 P7 GRAVURE DES MATÉRIAUX PAR PLASMA (2,5 Jours)
BRASAGE SOUS VIDE : PRINCIPES, MISE EN ŒUVRE ET ÉTUDES DE CAS (2 jours)
LE TITANE ET SES ALLIAGES : APPLICATIONS INDUSTRIELLES (3 jours)