Les formations
Formation Procédés PROCÉDÉS D’ÉLABORATION ET CARACTÉRISATION DES COUCHES MINCES
- Date début : 24/06/2024
Date fin : 28/06/2024 - Durée : 5 jours (35 heures)
- Lieu :
- Prix adhérent : 2 490 €
Non adhérent : 2 590 € - TP : 35 %
- Modalités et délai d'accès : Toute inscription est recevable dès publication de l'offre jusqu'à l'atteinte du nombre maximal de participants.
- Accessibilité : Accès PMR. Contactez-nous pour une étude personnalisée de votre demande.
- Formats possibles : Intra entreprise et distanciel (sur la partie théorique ) et TP à Chimie ParisTech et Orsay.
- Contact :
Christine Lemoine
01 53 01 90 34
christine.lemoine@vide.org
TAUX DE SATISFACTION 100 %
61 % très satisfait / 39 % satisfait
OBJECTIFS
Cette formation s’adresse aux personnes qui utilisent les plasmas comme des outils pour des applications faisant appel au traitement de surface, au dépôt ou à la gravure, dans des domaines très divers tels que la mécanique, l’optique, la décoration, la micro-électronique, etc.
L’objectif est de permettre aux stagiaires de connaître les différents procédés d’élaboration de couches minces couramment utilisés ainsi que les mécanismes de croissance associés à ces procédés.
NIVEAU / PRÉREQUIS
Niveau Intermédiaire
Des connaissances de base en physique et/ou en chimie sont nécessaires (Bac+2 ouBac+3). Des connaissances théoriques ou pratiques dans le domaine des techniques du vide seraient un plus.
MÉTHODES MOBILISÉES
Support de cours au format PDF – Démonstrations et applications pratiques.
PROGRAMME
Ce stage, sur cinq jours, comporte une partie de cours théoriques et des travaux pratiques permettant de passer de la théorie à l’application. La première partie des cours présente les différentes techniques d’élaborations de couches minces (pulvérisation cathodique, PECVD, CVD, ALD, évaporation…), leur principe et leurs applications industrielles. La deuxième partie des cours porte sur l’étude de différents mécanismes de dépôt et de croissance des couches minces.
Les travaux pratiques sont consacrés à la présentation et à l’utilisation de différents réacteurs industriels et expérimentaux de dépôt et aux techniques présentées lors de la partie théorique. La troisième partie est dédiée à la mise en pratique des connaissances acquises dans le domaine des diagnostics optiques et électriques des plasmas, grâce à des travaux pratiques effectués sur divers types de réacteurs à plasma.
Cours :
● Fonctionnalisation de surface par plasma basse pression.
● Technologie du vide poir les couches minces.
● Dépôts de couches minces par ALD.
● La pulvérisation cathodique.
● Croissance chimique en phase vapeur.
● Évaporation.
TP :
● Évaporation.
● Pulvérisation cathodique.
● Dépôt de couches minces par plasma.
● Fonctionnalisation de surface.
MODALITÉS D’ÉVALUATION
Évaluation de fin de stage réalisée sous forme de QCM.